还原炉数控抛光机

发布时间:2024-03-01 11:30:40 人气:0 来源:未知来源

核心创新设计

特性 优势说明
双伺服磨头系统 双磨头连续作业,效率提升30%+,一键启停
智能恒压抛光 进口压力传感器自动恒定磨压,零人工干预
气动定心装夹 工件自动对中,装夹效率提升50%
全封闭作业舱 透明视窗监控+可选配吸尘系统(环保达标)
立柱变频旋转 工件固定+立柱带动磨头全景抛光

技术参数体系

维度 规格指标
适用工件 反应釜/容器内壁(直筒+封头段)
工件尺寸 Φ1500-3500mm×高4000mm
抛光方式 千叶轮/布轮多耗材适配
运动系统 立柱变频旋转+磨头三维调节
安全防护 全封闭护罩+急停装置

应用场景图示

 
[医疗设备] → [化工容器] → [环保装备]  
    ↑  
[保温层覆件] ← [立式反应釜]  
核心价值:解决不宜横置工件的内壁抛光难题  

五大核心优势

  1. 高效生产:双磨头协同+30%效能跃升

  2. 精准控制:恒压抛光+气动自定心(±0.5mm)

  3. 安全环保:全封闭防飞溅+85%除尘可选配

  4. 人机友好:透明视窗观测+简易装夹设计

  5. 广域兼容:适配Φ1.5-3.5m立式容器内壁

  6. 注:特别适用于带保温层、不可移动的大型容器内表面处理,解决行业痛点。

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